韓國成均館大學Heeyeop Chae教授來訪交流

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2019-11-12 12:11:13 作者: 所屬分類:學術動態 閱讀:43

適逢“第五屆華中科技大學與成均館大學雙邊研究生研討會暨學術年會”召開之際,Chae教授作為韓方代表被邀請在大會上做題為“Improvement of Efficiency and Stability of Quantum Dot Photoluminescence and Electroluminescence”的報告,會議期間Chae教授積極與我研究中心溝通,并提出參觀和交流。Chae教授作為韓國原子層刻蝕的領軍人物,在離子體原子層沉積與化學氣相沉積設備研發和工藝探索方面頗有建樹,并將這些技術應用于量子點領域,結合表面配體工程,實現了量子點表面高效的功能化和穩定化,在Advanced Materials等國際著名期刊上發表一系列論文。

11月6日下午,在陳蓉教授、文艷偉副教授等人的陪同下,Chae教授參觀了我中心自制原子層沉積設備及應用試樣,并就設備的設計、功能、改造和應用模式進行了深入地交流。Chae教授高度評價了研究中心的設備配置和布局規劃,就中心的發展方向和取得的成就給予了充分的肯定。隨后,雙方進行了深入細致的學術交流。陳蓉教授簡單介紹了在選擇性原子層沉積催化劑結構設計、量子點原子層沉積穩定化處理以及柔性顯示大面積空間原子層沉積封裝等方面的工作進展;Chae教授介紹了其在原子層沉積、原子層刻蝕以及量子點表面配體穩定化方面的工作,雙方就相關科學問題展開了深入而熱烈的討論。最后,陳蓉教授作為第五屆國際原子層沉積應用會議暨第一屆亞洲原子層沉積會議(2020,武漢)執行主席,向Chae教授發出了誠摯的邀請,雙方對明年的相聚和交流充滿期待。

Chae教授的這次實地參觀與討論,促進了韓國成均館大學與華中科技大學的深入交流,并對后續合作研究打下了良好的基礎。

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