愛爾蘭廷德爾國家研究所Simon David Elliott博士來訪交流

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2018-12-14 14:12:10 作者: 所屬分類:學術動態 閱讀:450

10月18日,愛爾蘭廷德爾國家研究員Simon David Elliott受我中心陳蓉教授邀請,在先進制造大樓作題為“材料原子尺度精確生長及刻蝕技術模擬”的學術報告,與會的老師還有單斌教授、馮光教授、文艷偉副教授、李松副教授以及相關的老師和同學。Simon David Elliott博士是原子尺度過程模擬薛定諤科學軟件公司的主任,2001年到2018年間,擔任愛爾蘭廷德爾國家研究所(Tyndall National Institute)的研究員,并領導設備組的材料建模工作。他在都柏林圣三一學院取得分析化學學士學位(1995年),在卡爾斯魯厄理工學院取得博士學位(1999年),在三一學院(1999-2001年)進行博士后研究。他還是英國皇家化學學會和項目管理研究所成員、第16屆原子層沉積國際會議(2016)的聯合主席以及是歐洲COST Action(2014-2018) ALD的主席,累計發表超過75篇科研論文,經常受邀參加國際學術會議。

當今世界,納米技術在高科技設備制造中被廣泛應用,例如計算、數據存儲、通信設備、傳感器以及太陽能電池等。而原子層沉積(ALD)和原子層蝕刻(ALE)是通過自限表面化學來實現原子水平控制的加工技術,其可提供高科技設備所需的保形性、均勻性和純度。Simon David Elliott博士借助第一原理計算,提出了一個新的、通用的、計算效率高的框架,用于分析刻蝕過程是連續的還是自限制的。同時,利用DFT和相應的反應動力學,建立了SiO2,Si3N4,SiC等Si基材料區域選擇性沉積的化學反應機理。在報告中他還向大家展示了自動化計算篩選在設計有機金屬前體、縮小化學空間和尋找新型前驅體分子等方面的能力。這些例子表明,模擬在加深我們對現有研究過程的理解和發現新化學物質方面具有獨特的作用。

Simon David Elliott博士精彩的講演和淵博的學識令在場的同學受益匪淺。報告之后,與會老師和學生與Simon David Elliott博士進行了熱烈的討論。這次來訪使同學們有機會接觸到該研究領域最前沿的發展動態,為同學們提供了新的思考方向和有益啟示。Simon David Elliott博士的本次交流訪問,促進了雙方對對ALD生長理論與前驅體設計等理論研究熱點的理解,也為今后的合作奠定了堅實的基礎。

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